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混悬液研磨分散机,混悬液胶体磨,口服液研磨分散机,注射剂研磨分散那几,德国研磨分散机是透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
纳米研磨分散设备
研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或冲击力（impactforce）将粉体由大颗粒粉碎成小颗粒。
分散：纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住，以便达到颗粒完全被分离（separating）、润湿（wetting）、分布（distributing）均匀及稳定（stabilization）目的。
在做纳米粉体分散或研磨时，因为粉体尺度由大变小的过程中，范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响，是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散关键技术。
纳米研磨分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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磨分散机 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
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类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
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CMD 2000/4 |
300 |
9,000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
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CMD 2000/5 |
3000 |
6,000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
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CMD 2000/10 |
3000 |
4,200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
|
CMD 2000/20 |
20000 |
2,850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
CMD 2000/30 |
40000 |
1,420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
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CMD2000/50 |
120000 |
1,100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
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*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到*大允许量的10%。 |
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